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硅片上四種不同厚度的二氧化硅（SiO2 ）薄膜(0.4, 0.8, 1.3, 4.2 nm)由傅立葉變換紅外光譜儀進(jìn)行分析。

隨著氧化層厚度的降低，1,250 cm-1和1,065 cm-1附近的峰值向低波數(shù)方向移動(dòng)。

為了測(cè)定薄膜厚度與峰值強(qiáng)度的關(guān)系，縱軸為峰值高度，橫值為薄膜厚度。
 

傅立葉變換紅外光譜儀

傅立葉變換紅外光譜儀主要用于測(cè)定有機(jī)化合物的結(jié)構(gòu)。儀器發(fā)出紅外光，照射到到分子上，分子吸收紅外輻射，該輻射能量等同于組成這些分子的原子間振動(dòng)的能量。然后根據(jù)這些紅外吸收來(lái)預(yù)測(cè)化合物結(jié)構(gòu)以及對(duì)化合物進(jìn)行定量分析。